S1200 DATA Sheet S2400 DATA Sheet S4400 DATA Sheet
SEMISTAT THERMOELECTRIC THERMOSTAT
Thermo-electric process thermostats for the semiconductor industry from -20 to 90 °C
The thermoelectric point of use (POU) temperature control system offers reproducible temperature control for plasma etching applications. This system dynamically controls the temperature of the electrostatic wafer chuck (ESC) and can be used in all types of etching processes. The LAUDA-Noah POU thermoelectric temperature control systems are based on established principles of heat transfer used for Peltier elements. These elements allow quick and precise temperature control required for complex processes involved in the manufacture of components progressively getting smaller and smaller in size.
Point of use (POU) temperature control systems can reduce energy consumption by up to 90 % compared to compressor-based systems. Minimal space requirements with the option of underfloor installation at the point of use minimizes cleanroom use. Quick and precise temperature control of the process temperature profiles to ±0.1 °C improves wafer-to-wafer homogeneity.
SEMISTAT 서모일렉트릭 서모스탯
-20 ~ 90 °C의 반도체 산업용 열전 공정 온도 조절 장치
열전 사용 지점(POU) 온도 제어 시스템은 플라즈마 에칭 애플리케이션을 위한 재현 가능한 온도 제어를 제공합니다. 이 시스템은 정전 웨이퍼 척(ESC)의 온도를 동적으로 제어하며 모든 유형의 에칭 공정에 사용할 수 있습니다. LAUDA-Noah POU 열전 온도 제어 시스템은 펠티에 소자에 사용되는 확립된 열 전달 원리를 기반으로 합니다. 이러한 요소를 사용하면 점차적으로 크기가 작아지는 구성 요소의 제조와 관련된 복잡한 공정에 필요한 빠르고 정확한 온도 제어가 가능합니다.
사용 시점(POU) 온도 제어 시스템은 압축기 기반 시스템에 비해 에너지 소비를 최대 90%까지 줄일 수 있습니다. 사용 지점의 바닥 설치 옵션으로 공간 요구 사항을 최소화하여 클린룸 사용을 최소화합니다. 공정 온도 프로파일을 ±0.1°C까지 빠르고 정밀하게 제어하여 웨이퍼 간 균질성을 개선합니다.
